依托母公司专业的微纳米光刻工艺，维旺光刻设备完全自主知识产权。拥有行业内数量最多、效率最高、实现产品面积最 大的光刻模具和翻铸设备 。设备具备Tb级的数据设计和处理能力。Ns激光直写面积覆盖4-110吋，分辨率1um，重复定位50nm-100nm，光刻效率200万点/小时。结合对市场需求的掌握，我们持续的研发和实践多种模具设计、加工、复制工艺路线，我们有足够的能力为客户提供行业内最专业、最精密、最具技术前沿性的模具解决方案。